化學拋光可以認為是在一定特定條件下的光面化學浸蝕過程，其結果是需要獲得一個平滑而光亮的表面，但并不是所有的鋁型材都可以得到這個效果；一般而言，化學拋光質量隨鋁型材各組分的不同而異，含銅及鋅的鋁型材拋光效果較差，而高硅鋁則很難通過化學拋光來獲得光亮平滑的效果；通常是鋁的純度越高，拋光效果越好，拋光后的反射率越高；

化學拋光通過拋光溶液對鋁型材微觀凹凸表面的膜層形成及溶解速度不同而達到拋光的目的；為了使拋光過程中對鋁型材的溶解速度最小，需要膜層的形成速度稍大于溶解速度，這一目的通過提高拋光溶液的黏度及溶液中的氧化劑或其他成膜添加劑的含量來達到；關于化學拋光的原理并無一個權威的解釋，目前有兩種解釋；

一是通過鋁型材在拋光過程中由于擴散的控制面而形成的氧化膜層或置換層，來抑制金屬的溶解速度，達到研磨的目的；當然，不管是膜層還是置換層都不可能無限制的生長，在生長的同時也會被溶解；在型材表面的凹凸表面，凹面的膜層或置換層會優先一步形成，同時要厚一些；凸面的膜層或置換層會滯后一步形成，同時要薄一些；這是由于凸起面腐蝕電流集中，活性大，溶解速度較凹面為大；而這種現象的發生使鋁型材的凹凸表面產生了腐蝕速度差，進而形成“先凸后凹”的腐蝕行為，化學拋光正是利用了這種腐蝕速度差所造成的“先凸后凹”來完成對鋁型材表面的整平作用，達到表面平滑光亮的目的；與此原理相關的拋光溶液都是濃度高的，比如常用的三酸、二酸拋光等；這類拋光溶液的粘稠度高及添加物質的協同作用，使其擴散速率降低，為拋光過程的“先凸后凹”的腐蝕行為創造必要條件；

二是利用化學拋光溶液的低濃度來達到對鋁型材表面低溶解速率的作用并產生研磨效果；這種方法的拋光溶液一般都由稀的硝酸和磷酸組成，鉻酐提供氧化劑，過氧化氫作為氧化劑也屬于此類作用；其拋光原理和上述基本相同，都是通過拋光溶液對鋁型材表面凹凸面的溶解速度差使鋁型材經拋光后達到平滑和光亮的目的；

不管是高濃度還是低濃度都需要在拋光溶液中添加一定量的氧化劑，可以用于化學拋光的氧化劑種類很多，但真正能滿足其要求并采用得最多是高濃度的硝酸及硝酸鹽；過氧化氫的穩定性差，只在一些低濃度的拋光工藝中有采用；高錳酸鹽對亮度有提高，但難以做到平滑的效果，多與硝酸配合使用以降低二氧化氮的揮發；而鉻酐的效果比硝酸差的多，同時六價鉻的毒性大，使用受到很大限制；至于其他更好的氧化劑還有待于進一步的研究；

化學拋光對鋁型材表面的整平程度是十分均勻的，同時經化學拋光的表面比機械拋光的表面光亮度具有更優越的耐久性（即機械拋光后的表面雖然光亮度好，但很容易掉色）；關于化學拋光的黏膜層理論可參閱電解拋光的相關文章；

鋁型材的化學拋光可分為堿性拋光和酸性拋光兩種；酸性化學拋光的主要原料是磷酸、硫酸、硝酸、醋酸、氟化氫銨等；由于這些基本原料根據加工目的的不同可以組成多種配方，在化學拋光中僅有這些基本原料組成的配方并不能很好地滿足生產需求，還需要有目的地在拋光溶液中添加一些旨在提高鋁型材表面光澤度及平滑度的添加物質；這些添加物質可分為兩大類，一是無機鹽，二是有機物；無機鹽中采用得最多的是銀、銅、鎳、鉻鹽等，有機物有甘油、草酸、檸檬酸、氨基酸等；